专注于化学沉积,电镀和铜面处理技术创新
产品描述
水平不溶性阳极脉冲填孔电镀铜
SkyPlate Cu658
丨产品概述:
● SkyPlate Cu658是用于水平不溶性阳极脉冲电镀填孔工艺的酸铜电镀添加剂体系
● 电镀液含特别氧化还原对实现电子交换, 阳极不析氧
● 阳极反应形成的氧化态离子可以溶铜,铜离子补充通过线外溶铜槽添加纯铜完成
● 盲孔填充效果好(孔径100-120 µm/孔深50-80 µm, dimple<5 µm)
● 电镀时间短(20-35 min),高效生产能力
● 良好的物理性能
● 电镀表面铜厚薄(8-12 µm)
丨产品特性:
盲孔孔径: 90um, 介厚: 45um
平均电流密度~4.7ASD
电镀厚度8-10um,Dimple <5um
盲孔孔径: 100um,介厚: 70um
平均电流密度~4.8ASD
电镀厚度8-10um,Dimple <5um
回流焊测试:30次无断铜,无角裂,无铜层分离
SEM观察: 无晶格缺陷